패턴 복제에 사용되는 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물,그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드,그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여복제된 패턴(FLUORINATED ORGANOSILANE COMPOUND FOR PRODUCING MOLDUSED FOR REPLICATING PATTERNS, ORGANIC-INORGANIC HYBRIDMOLD FOR PATTERN REPLICATION PRODUCED BY USING THESAME, METHOD OF REPLICATION OF PATTERN USING THE MOLDAND PATTERN REPLICATED BY THE METHOD)

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본 발명은 패턴 복제에 사용되는 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물, 그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드, 그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여 복제된 패턴에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 이형제 처리와 같은 표면처리를 필요로 하지 않는 동시에 일정 수준 이상의 강도를 가지므로써, 나노 임프린트 공정 및 소프트 식각(soft lithography) 패터닝 공정에서 모두 사용가능한 새로운 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물, 그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드, 그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여 복제된 패턴에 관한 것이다.
Assignee
한국과학기술원,한국기계연구원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2007-03-21
Application Date
2005-06-14
Application Number
10-2005-0051011
Registration Date
2007-03-21
Registration Number
10-0700435-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/236329
Appears in Collection
MS-Patent(특허)
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