나노 구조물 가공용 쉐도우 마스크 제조 방법 및 그마스크를 이용한 나노 구조물 제조 방법

Abstract

본 발명은 나노 구조물 가공용 쉐도우 마스크 제조 방법 및 그에 따라 제조된 나노 구조물 가공용 쉐도우 마스크를 통하여 나노 구조물을 제조하는 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 나노 구조물 가공용 쉐도우 마스크 제조 방법은 실리콘 기판을 열산화하여 상부면과 하부면에 실리콘 산화막을 형성시키는 단계와, 실리콘 산화막에 내부응력이 낮은 실리콘 질화막을 저압화학 기상증착하는 단계와, 실리콘 기판의 상부면에 형성된 실리콘 산화막과 실리콘 질화막을 구조물 형상에 따라 식각하는 단계와, 실리콘 기판의 하부면에 형성된 실리콘 산화막과 실리콘 질화막을 식각하여 실리콘막 함몰부를 형성시키는 단계와, 실리콘막 함몰부를 통하여 노출된 실리콘 기판의 부분을 습식에칭하는 단계와, 실리콘 기판의 외부로 노출된 면에 내부응력이 낮은 실리콘 질화막을 저압화학 기상증착하는 단계로 구성된다. 이에 따라, 본 발명은 형상에 제한이 없이 마이크로미터 단위로 식각된 마스크에 실리콘 질화물을 저압화학 기상증착함에 의하여 나노단위 크기의 마스크를 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 나노구조물 제조시마다 감광제를 별도로 사용하지 않은 상태에서 증착에 의하여 나노구조물을 제조할 수 있다.