소프트 몰드의 제조 방법METHOD FOR MANUFACTURING SOFT MOLD

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본 발명은 고점도 유체를 전사하여 나노스케일의 선폭을 갖는 전극 패턴을 제조하기 위한 소프트 몰드의 제조 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 소프트 몰드의 제조 방법은 실리콘 기판의 표면을 나노스케일의 표면거칠기로 가공하는 단계와, 실리콘 기판의 표면에 포토레지스트 패턴을 패터닝하는 단계와, 실리콘 기판의 표면에 폴리머를 코팅한 후 실리콘 기판과 폴리머를 분리하여 나노스케일의 표면거칠기와 고점도 유체의 충전하여 전사할 수 있는 몰드 패턴을 구비하는 소프트 몰드를 얻는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 소프트 몰드는 표면에 나노스케일의 표면거칠기와 고점도 유체를 충전하여 전사할 수 있는 몰드 패턴을 구비한다. 본 발명에 의하면, 몰드 패턴에 충전되어 있는 고점도 유체를 터치패널에 전사하여 80㎛ 이하의 선폭을 갖는 전극 패턴을 제조할 수 있다. 또한, 나노스케일의 선폭을 갖는 전극 패턴의 정확성과 일치성이 향상되므로, 터치패널에 화학적 처리 없이 저온에서 전극 패턴을 형성할 수 있다.
Assignee
하나마이크로(주),한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2014-08-12
Application Date
2011-12-13
Application Number
10-2011-0134058
Registration Date
2014-08-12
Registration Number
10-1431792-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/233152
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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