나노크기 이하의 기공을 가지는 카본나이트라이드나노튜브, 이의 제조방법 및 카본나이트라이드 나노튜브의기공 크기와 양을 조절하는 방법

Abstract

본 발명은 나노크기 이하의 기공을 가지는카본나이트라이드(Carbonnitride, C1-xNx) 나노튜브, 이의 제조방법 및 C1-xNx 나노튜브의 기공 크기와 양을 조절하는 방법에 관한 것이다.본 발명은 1nm 이하의 크기를 지니는 기공을 나노튜브 구조전체에 가지는 C1-XNX 나노튜브 및 이의 제조방법 제공을 다른 목적으로 한다.본 발명은 1nm 이하의 크기를 지니는 기공을 나노튜브 구조전체에 가지는 C1-XNX 나노튜브 제조시 1nm 이하의 크기를 지니는 기공의 크기와 양을 조절하는 방법을 또 다른 목적으로 한다. 본 발명은 금속촉매 입자 존재하에서 탄화수소가스와 질소가스를 플라즈마 화학기상증착법(plasma CVD)으로 반응시켜 나노크기 이하의 기공을 가지는 C1-xNx 나노튜브를 제조할 수 있다. 상기의 C1-xNx 나노튜브에서 x는 0.001∼0.2이다.