상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 및 그 제조 방법Photorefractive Polymer Materials with High StabilityAnd Manufacturing Method Thereof

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dc.contributor.author윤춘섭ko
dc.contributor.author박정기ko
dc.contributor.author이종우ko
dc.contributor.author이광섭ko
dc.contributor.author문준호ko
dc.date.accessioned2017-12-20T10:23:21Z-
dc.date.available2017-12-20T10:23:21Z-
dc.date.issued2005-02-01-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/232350-
dc.description.abstract본 발명은 광전도성 고분자와 비선형 광학 고분자 및 전하 발생체를 포함하고 있으며, 광굴절 효율과 상안정성이 우수하고 가공이 용이한 광굴절 고분자 재료로써, 정보 저장 및 처리 그리고 영상 처리 장치의 재료로 응용 가능한 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 입사된 광을 전도하는 광전도성 고분자 물질과; 입사된 광을 굴절시켜 주는 선형 전기 광학 특성 고분자(비선형 광학 고분자) 물질과; 입사된 광에 반응하여 전하를 생성하는 전하 발생체와; 상기 조성물의 혼합물을 가소시켜 주는 가소제를 포함하여 조성되는 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물을 제공한다. 상안정성, 고분자, 광굴절, 광전도성, 선형 전기 광학 특성 고분자, 전하 생성체, 가소제, 매체, 홀로그램-
dc.title상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 및 그 제조 방법-
dc.title.alternativePhotorefractive Polymer Materials with High StabilityAnd Manufacturing Method Thereof-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor윤춘섭-
dc.contributor.localauthor박정기-
dc.contributor.nonIdAuthor이종우-
dc.contributor.nonIdAuthor이광섭-
dc.contributor.nonIdAuthor문준호-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2001-0014839-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-0471399-0000-
dc.date.application2001-03-22-
dc.date.registration2005-02-01-
dc.publisher.countryKO-
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PH-Patent(특허)CBE-Patent(특허)
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