유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치Antenna device for generating inductively coupled plasma

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본 발명은 대면적의 시료를 가공할 수 있는 대규모의 유도결합 플라즈마를 발생하기 위한 저 임피던스의 안테나 장치를 제공하며, 발생된 플라즈마의 밀도 분포가 균일하도록 조절할 수 있는 안테나 장치를 제공하기 위하여, 대규모의 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 발생 장치를 위한 안테나 장치에 있어서, 고주파 전원; 상기 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 공급받는 제 1 안테나; 및 상기 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 공급받으며 상기 제 1 안테나와 병렬 접속되되, 상기 제 1 안테나와의 사이에서 공진 상태를 유지하는 제 2 안테나를 포함하는 안테나 장치를 제공한다.
Assignee
주성엔지니어링(주),한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2002-05-13
Application Date
1999-08-26
Application Number
10-1999-0035702
Registration Date
2002-05-13
Registration Number
10-0338057-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/232183
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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