나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴의 제조 방법METHOD OF MANUFACTURING NANO STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING A PATTERN USING THE METHOD
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김상욱 | ko |
| dc.contributor.author | 김봉훈 | ko |
| dc.contributor.author | 김지은 | ko |
| dc.contributor.author | 정성준 | ko |
| dc.contributor.author | 이수미 | ko |
| dc.contributor.author | 유재호 | ko |
| dc.contributor.author | 남승호 | ko |
| dc.contributor.author | 이문규 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T09:10:26Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T09:10:26Z | - |
| dc.date.issued | 2015-11-20 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/232130 | - |
| dc.description.abstract | 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴의 제조 방법에 있어서, 나노 구조체의 제조 방법은 중성층을 포함하는 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성하고, 블록 공중합체를 포함하는 제1 박막으로 제1 희생 블록 및 제2 희생 블록을 포함하는 희생 구조체를 형성한 후, 화학 패턴을 형성함으로써 나노 구조체를 형성한다. 이에 따라, 대면적의 기판에 블록 공중합체를 이용한 나노 구조체를 용이하게 형성함으로써 생산성 및 제조 신뢰성을 향상시킬 수 있다.대면적, 나노 구조체, 블록 공중합체, 포토레지스트, 중성층, 리소그래피 | - |
| dc.title | 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴의 제조 방법 | - |
| dc.title.alternative | METHOD OF MANUFACTURING NANO STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING A PATTERN USING THE METHOD | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김상욱 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김봉훈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김지은 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 정성준 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이수미 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 유재호 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 남승호 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이문규 | - |
| dc.contributor.assignee | 삼성디스플레이 주식회사,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0101137 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1572109-0000 | - |
| dc.date.application | 2009-10-23 | - |
| dc.date.registration | 2015-11-20 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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