DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 시스템생성자 | ko |
dc.contributor.author | 박기종 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-20T08:26:30Z | - |
dc.date.available | 2017-12-20T08:26:30Z | - |
dc.date.issued | 2005-01-20 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/231866 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 건식식각과 습식식각을 혼용하여 자기정합적인 접촉창을 형성하는 접촉창을 갖는 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 홀을 게이트 스페이서가 부분적으로 노출될 때 까지 층간절연층을 선택적으로 건식식각하여 접촉창이 형성될 영역에 형성된다. 측벽 스페이서를 홀의 측벽에 형성한다. 접촉창이 형성될 영역에 남아있는 층간절연층을 습식식각으로 제거하여 접촉창을 형성한다. | - |
dc.title | 접촉창을갖는반도체소자의제조방법 | - |
dc.title.alternative | The downward tangent line air injection type non-mechanical solid re-pouring apparatus of the circulation fluid bed | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 시스템생성자 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 박기종 | - |
dc.contributor.assignee | 삼성전자주식회사 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-1997-0046538 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0468690-0000 | - |
dc.date.application | 1997-09-10 | - |
dc.date.registration | 2005-01-20 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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