본 발명은 탄소나노시트의 분산방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수포화된 탄소나노시트에 가스를 주입하고 이를 저온에서 유지시켜 가스와 얼음이 인터컬레이션(intercalation)된 탄소나노시트를 수득한 다음, 용매에 분산시킴으로써, 탄소나노시트의 손상 없이 간단하면서 빠르게 탄소나노시트를 용매상에 분산시킬 수 있는 탄소나노시트의 분산방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 탄소나노시트를 손상시키지 않고, 보다 효과적으로 탄소나노시트를 분산시킬 수 있을 뿐만 아니라, 볼 밀 방법, 화학적 처리 또는 기타 추가적인 기능기의 표면 도입 등과 같은 별도의 공정 없이 간편하면서도 보다 빠르게 대량의 탄소나노시트를 자발적으로 분산시킬 수 있다.