형광 염료가 혼합된 광가교형 포토레지스트의 형광패턴Fluorescence pattern of the fluorescent dye incorporated photo-crosslinkable photoresiet
본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서,a)기재 상에 가교반응형 폴리머 광산발생제, 형광체 및 유기용매로 이루어진 화학증폭형포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계;b)상기 노광한 후 후열반응(postbaking)으로 형광패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 형광패턴 형성방법에 관한 것이다.또한 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서, 기재 상에 광민감성 가교형 폴리머, 형광체 및 유기용매로 이루어진 비화학증폭형 포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계를 포함하는 형광패턴형성방법에 관한 것이다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2012-12-05
- Application Date
- 2012-03-07
- Application Number
- 10-2012-0023674
- Registration Date
- 2012-12-05
- Registration Number
- 10-1210904-0000
- Appears in Collection
- CH-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.