근접장 나노패터닝과 원자층 증착법을 이용한 3차원 나노구조의 금속산화물 제조 방법Fabrication of three dimensional metal oxides using PnP and ALD with high performance for hydrogen production
본 발명은 (a) 포토레지스트(photoresist)를 기판 위에 스핀코팅(spin-coating) 하는 단계, (b) 근접장 나노 패터닝(proximity-field nanopatterning) 방법을 통하여 상기 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴의 기공이 형성되도록 하는 단계, (c) 금속 전구체를 이용한 원자층 증착법에 의해 상기 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴이 형성된 포토레지스트를 주형(template)으로 상기 3차원 다공성 기공내에 금속 산화물을 도입시키는 단계, 및 (d) 상기 포토레지스트 주형을 제거함으로써, 상기 포토레지스트에 형성된 3차원 다공성 나노구조의 역상(inverse form) 형태의 3차원 나노구조화된 다공성의 금속 산화물을 얻는 단계를 포함하는 3차원 나노구조의 금속산화물 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 금속산화물에 관한 것이다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2014-05-21
- Application Date
- 2013-05-23
- Application Number
- 10-2013-0058212
- Registration Date
- 2014-05-21
- Registration Number
- 10-1400363-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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