DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 김승우 | ko |
dc.contributor.author | 주우덕 | ko |
dc.contributor.author | 김영진 | ko |
dc.contributor.author | 이주형 | ko |
dc.contributor.author | 김승만 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-20T02:04:15Z | - |
dc.date.available | 2017-12-20T02:04:15Z | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/230211 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 정밀 표면형상 측정 간섭계 장치에 관한 것으로, 고안정도 시간/주파수 표준에 소급하여 고속으로 펄스 레이저의 반복률을 주사함으로써, 고단차 대영역 복잡 형상을 고속으로 정밀하게 측정하는 간섭계 장치에 관한 것이다. 본 발명은 반복률 고속 주사를 위한 전기광학소자 및 음향광학소자, 또는 주사 범위를 늘리기 위한 압전소자 및 모터 스테이지와 같은 반복률 제어 장치, 반복률 제어장치를 포함한 펄스 레이저 공진기, 공진기에서 발진하는 펄스의 반복률을 시간/주파수 표준에 소급된 주파수 측정기로 정밀하게 측정하고 제어하는 제어부, 제어 정확도를 보정하기 위한 시간/주파수 표준, 펄스 레이저를 이용하여 형상을 측정할 수 있는 간섭계, 획득한 간섭신호를 저장 및 분석하는 처리장치를 포함한다. 본 발명은 종래의 광학 형상측정기술에서 기계적 주사방식 혹은 파장 주사를 분광방식 기반의 측정방법이 고단차 복잡형상 측정 및 측정 속도에 있어서 가지는 한계를 극복하기 위해, 펄스 레이저의 반복률을 주사속도 및 주사범위를 향상시킴으로써, 고단차 복잡형상을 고속으로 정밀하게 측정할 수 있는, 표면형상 측정용 간섭계를 제공하고자 한다. | - |
dc.title | 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계 | - |
dc.title.alternative | High-speed high-accuracy surface measuring interferometry by tuning repetition rate of a pulse laser | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 김승우 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0078215 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1379043-0000 | - |
dc.date.application | 2011-08-05 | - |
dc.date.registration | 2014-03-21 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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