패턴의 형성방법 및 이를 통해 제조된 메타물질

Abstract

본 발명은 패턴이 형성된 제1 고분자 기판을 준비하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 준비된 제1 고분자 기판의 패턴을 제2 고분자로 채운 후, 상기 제2 고분자를 반경화시키는 단계(단계 2); 상기 단계 2에서 반경화된 제2 고분자를 포함하는 제1 고분자 기판을 패턴을 가지는 표면에 박막을 형성한 후, 주름(wrinkles) 또는 접힘(folding) 구조를 형성하는 단계(단계 3);를 포함하는 패턴의 형성방법을 제공한다. 본 발명에 따른 패턴의 형성방법은 패턴을 형성하고자 하는 부분에 경도의 차이를 발생시켜 주름 구조 또는 접힘 구조를 포함하는 패턴의 위치 조절을 가능하게 한다. 이와 같이, 패턴의 위치 조절이 가능함으로써 정밀한 얼라인이 필요한 패턴 구조 제작, 3 차원 금속 패턴 제작, 마이크로/나노 구조 제작, 자극 감응형 디바이스 제작, 유연 소자 개발 등의 분야에 활용되는 기술로 응용될 수 있다.