금속 촉매 식각 방법을 이용한 수직 나노구조를 포함하는 광학기기 및 그 제조 방법

Abstract

본원 발명은 수직 나노구조를 이용하여 광학 기기 등을 제작하는 방법으로, Si, Ge 등의 단결정 반도체 기판, GaAs, InP 등의 III-V 화합물 반도체 기판, SOI (silicon on insulator) 기판 중 적어도 어느 하나인 기판을 준비 단계, 상기 세정된 기판 상에 리소그라피(Lithography) 방법, 셀프 어셈블리 템플릿(Self-assembly template) 방법 중 어느 하나 이상의 방법을 이용하여 원하는 수직 나노 구조를 패터닝 하는 단계, 금, 은, 백금 등의 금속 중 어느 하나, 둘 이상의 조합을 포함하는 촉매 금속을 최종적으로 완성하고자 하는 수직 나노구조의 역상 패턴으로 기판 상부에 증착하는 단계, 불산(HF)과 과산화수소(H2O2) 혼합 수용액에 담지하는 금속 촉매 식각 방법을 이용하여 수직 나노구조를 제작하는 단계 등을 이용한다. 이를 통해, 금속 촉매 식각 방법을 이용하여 격자 구조를 제작함으로써, 보다 더 미세하고, 정교한 패턴들을 용이하게 제작하고자 한다.이와 같이 제작된 SWG 구조를 가진 나노 구조를 갖는 광학 기기는 기존의 건식 식각을 이용하여 제작된 구조에 비하여 보다 더 효과적인 성능을 가질 수 있다.