패턴화된 구조를 가지는 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법Nano Structure of Block Copolymer Having Patternized Structure and Method for Preparing the Same

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본 발명은 패턴화된 구조를 가지는 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 유기물 포토레지스트 패턴을 형성한 후 블록공중합체의 자기조립 나노구조를 유도하는 방법에 의해 제조되는, 패턴화된 구조를 가지는 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 유기물 포토레지스트를 사용하여 블록공중합체의 나노구조체 제조 후 포토레지스트의 제거가 용이하고, 제조과정 중에 포토레지스트 패턴의 요철 형태를 조절함으로써, 최종적으로 제조되는 블록공중합체의 나노구조체의 구조를 제어함으로써 원하는 형태의 블록공중합체의 나노구조체를 제조할 수 있어 다양한 분야에 적용가능하다.
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2012-05-15
Application Date
2008-12-12
Application Number
10-2008-0126655
Registration Date
2012-05-15
Registration Number
10-1148208-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/229149
Appears in Collection
MS-Patent(특허)
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