전해도금법에 의한 다공성 구리의 제조방법Method for Fabrication of copper foam by electrodeposition

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dc.contributor.author권혁상ko
dc.contributor.author김정한ko
dc.contributor.author김령희ko
dc.date.accessioned2017-12-20T00:56:11Z-
dc.date.available2017-12-20T00:56:11Z-
dc.date.issued2011-06-22-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/228964-
dc.description.abstract본 발명은 전해도금법에 의한 다공성 구리의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 전해도금으로 발생하는 수소를 틀(template)로 사용하여 다공성 구리(copper foam)를 제조함에 있어 전착시 첨가제로서 무기계는 암모늄(NH4+)과 염소(Cl-)가 사용되고, 유기계는 폴리에틸렌글리콜(PEG)과 MPSA(3-mercapto-1-propane sulfonic acid)를 첨가하여 밀도와 강도가 우수한 다공성 구리를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 다공성 구리는 3차원적으로 상호 연결된 기공으로 구성되어 표면적이 극대화된 다공성 구리를 제공한다. 전해도금법(electrodeposition), 다공성 구리, 무기계 첨가제, 유기계 첨가제-
dc.title전해도금법에 의한 다공성 구리의 제조방법-
dc.title.alternativeMethod for Fabrication of copper foam by electrodeposition-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor권혁상-
dc.contributor.nonIdAuthor김정한-
dc.contributor.nonIdAuthor김령희-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2008-0079525-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1045002-0000-
dc.date.application2008-08-13-
dc.date.registration2011-06-22-
dc.publisher.countryKO-
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MS-Patent(특허)
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