고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세 패턴을 형성하는 방법

Abstract

본 발명은 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, (a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 고분자 용액을 주입하고 경화처리하여 고분자 복제몰드를 형성하는 단계; (b) 미세패턴이 형성될 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계; (c) 상기 (b)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 고분자 복제몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계; (d) 상기 (c)단계의 고분자 복제 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 (d)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계를 포함하는 고분자 몰드를 이용한 다양한 형태 및 크기의 미세패턴 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 하나의 고분자 몰드를 이용하여 기본 몰드가 가진 패턴에서 새롭고 다양화된 패턴을 제공하는 효과가 있다. 본 발명은 또한 패턴의 제작 공정에 따라서 마이크로미터 수준의 패턴을 나노미터 수준의 패턴으로 만들어 줄 수 있으며 이는 기존 패턴의 제작 단가에서 획기적인 절감을 가져오는 효과를 갖는다.