옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물,상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및잉크젯 프린트 헤드An oxetane-containing compound, a photoresist composition comprising the same, a method for preparing a pattern using the photoresist composition and an inkjet print head
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김규식 | ko |
| dc.contributor.author | 김진백 | ko |
| dc.contributor.author | 하용웅 | ko |
| dc.contributor.author | 박병하 | ko |
| dc.contributor.author | 박지영 | ko |
| dc.contributor.author | 김수민 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-18T04:38:15Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-18T04:38:15Z | - |
| dc.date.issued | 2008-06-04 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/228067 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 하기 화학식 1또는 2를 갖는 옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물, 상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 옥세탄-함유 화합물의 중합 결과물을 포함한 잉크젯 프린트 헤드에 관한 것이다:<화학식 1> <화학식 2> 상기 화학식 1 중, Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, Q6, Q7, Q8, L1, L2, a, b, c, d, e, f, g, h 및 n은 발명의 상세한 설명을 참조한다. 본 발명을 따르는 옥세탄-함유 화합물은 중합성이 우수하여 포토레지스트로 이용될 수 있으며, 이의 중합 결과물은 내열성, 내화학성, 접착성, 내구성 등이 우수하다. | - |
| dc.title | 옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물,상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및잉크젯 프린트 헤드 | - |
| dc.title.alternative | An oxetane-containing compound, a photoresist composition comprising the same, a method for preparing a pattern using the photoresist composition and an inkjet print head | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김진백 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김규식 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 하용웅 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박병하 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박지영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김수민 | - |
| dc.contributor.assignee | 삼성전자주식회사,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2006-0120080 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0837409-0000 | - |
| dc.date.application | 2006-11-30 | - |
| dc.date.registration | 2008-06-04 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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