옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물,상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및잉크젯 프린트 헤드An oxetane-containing compound, a photoresist composition comprising the same, a method for preparing a pattern using the photoresist composition and an inkjet print head

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본 발명은 하기 화학식 1또는 2를 갖는 옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물, 상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 옥세탄-함유 화합물의 중합 결과물을 포함한 잉크젯 프린트 헤드에 관한 것이다:<화학식 1> <화학식 2> 상기 화학식 1 중, Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, Q6, Q7, Q8, L1, L2, a, b, c, d, e, f, g, h 및 n은 발명의 상세한 설명을 참조한다. 본 발명을 따르는 옥세탄-함유 화합물은 중합성이 우수하여 포토레지스트로 이용될 수 있으며, 이의 중합 결과물은 내열성, 내화학성, 접착성, 내구성 등이 우수하다.
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2008-06-04
Application Date
2006-11-30
Application Number
10-2006-0120080
Registration Date
2008-06-04
Registration Number
10-0837409-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/228067
Appears in Collection
CH-Patent(특허)
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