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차세대 디램 스토리지 노드를 위한 원자층 증착 공법 산화 하프늄지르코늄 커패시터 = Next-generation DRAM storage node with atomic layer deposition $Hf_xZr$yO_2$ capacitorlink

이승환; 조병진; et al, 한국과학기술원, 2020

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