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Characteristic of sputtered La$_{0.5}$Sr$_{0.5}CoO_3$ oxide electrode thin film for FRAM and ferroelectric ceramics = 스퍼터링 방법으로 증착된 FRAM용 산화물 전극 La$_{0.5}$Sr$_{0.5}CoO_3$ 박막 및 강유전 세라믹스의 특성 연구link Kim, Jai-Hyun; 김재현; et al, 한국과학기술원, 2004 |
STRUCTURE AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF PB(ZR,TI)O-3 THIN-FILMS DEPOSITED BY REACTIVE SPUTTERING USING MULTI-TARGETS Cho, NH; Kim, Ho Gi, THIN SOLID FILMS, v.266, no.2, pp.140 - 144, 1995-10 |
대면적 평면 마그네트론 스퍼터링 시스템의 플라즈마 발생 및 박막증착에 관한 수치적 연구 = A computational study on plasma generation and film deposition in a large-area planar magnetron sputtering systemlink 권의희; Kwon, Ui-Hui; et al, 한국과학기술원, 2004 |
스퍼터링으로 증착한 Cr 박막과 Co/Cr 다층박막의 표면응력변화 실시간측정 = In-situ measurements of the surface stress evolution during sputtering deposition of Cr and Co/Cr thin filmslink 하걸욱; Ha, Gul-Wook; et al, 한국과학기술원, 2004 |
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