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(A) study on oxidation of silicon by inductively coupled oxygen plasma and its application to polycrystalline silicon thin film transistors = 유도결합 산소플라즈마를 이용한 실리콘의 산화와 다결정실리콘박막트랜지스터에의 응용에 관한 연구link Choi, Yong-Woo; 최용우; et al, 한국과학기술원, 1999 |
급속열산화법을 이용한 게이트용 산화막 성장기구에 관한 연구 = Kinetics of rapid thermal oxidation of siliconlink 심규찬; Shim, Kew-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996 |
에피텍셜 $CoSi_2$층의 (100)Si 기판에서의 성장속도론 및 산화속도론 = Growth kinetics and oxidation kinetics of epitaxial $CoSi_2$ layer on (100)Si substratelink 김성철; Kim, Sung-Chul; et al, 한국과학기술원, 2000 |
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