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Characterization of $TiO_2$ thin films formed by plasma enhanced atomic layer deposition = PEALD법을 이용한 $TiO_2$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link Park, Pan-Kwi; 박판귀; et al, 한국과학기술원, 2002 |
(The) microstructure and electrical property of $HfO_2/Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막의 결정 구조 변화 및 전기적 특성에 관한 연구link Park, Pan-Kwi; 박판귀; et al, 한국과학기술원, 2007 |
고유전율 금속산화막, 그의 제조방법 및 이를 포함하는소자 강상원; 박판귀, 2008-10-27 |
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