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(A) study on UV enhanced gas phase cleaning of silicon wafer = 실리콘 웨이퍼의 자외광 여기 가스상 세정에 관한 연구link Kwon, Sung-Ku; 권성구; et al, 한국과학기술원, 2000 |
텅스텐 건식에칭에서 $CF_4/O_2$가스계에 CO 와 $CO_2$첨가 효과 = Effect of addition of CO and $CO_2$ to $CF_4/O_2$ etching system for tungsten etchinglink 권성구; Kwon, Sung-Ku; 정인재; 우성일; et al, 한국과학기술원, 1991 |
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