A study on the material design of photosensitive paste for the barrier ribs by x-ray lithography

Abstract

싱크론트론 방사광은 기존의 광원보다 강도가 수만배 이상의 강한 펄스광원이며, 평행성이 매우 좋아서 퍼짐이 작고, 연속 에너지 스펙트럼을 갖는 광원이라는 특성을 가진다. 따라서 기존의 감광성 방법으로 PDP의 격벽 형성에 주로 사용되는 자외선(UV) 광원에 비해 노광시간을 현저히 줄일 수 있을 뿐 아니라, 퍼짐이 매우 작아 고종횡비(high aspect ratio) 구조의 제작이 가능하다. 본 논문에서는 감광성 격벽 페이스트를 싱크르트론 방사광을 광원으로 사용하여 PDP의 격벽 패턴을 형성하는 공정에 대해 조사 하였다. 또한 이러한 고해상도 격벽구조 제작에 적합한 감광성 격벽 페이스트용 바인더 고분자의 합성, 용매, 광반응성 모노머, 광개시제와 공정 반응에 적합한 첨가제를 선정하여 알칼리 수용액에 현상이 가능한 X-선 리소그래피 공정 특성을 분석하였다.