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Gate bias induced degradation in hydrogenated amorphous silicon thin film transistors = 수소화된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터에서 게이트 바이어스에 의해 생성되는 열화현상에 대한 연구link Hwang, Chi-Sun; 황치선; Shin, Sung-Chul; Lee, Choo-Chon; et al, 한국과학기술원, 1996 |
Room temperature fabrication of ZnO nanorod films: synthesis and application as a channel layer of transparent thin film transistors Oh, Ji-Young; Park, Jonghyurk; Kang, Seung-Youl; Hwang, Chi-Sun; Shim, Hong-Ku, CHEMICAL COMMUNICATIONS, no.30, pp.4545 - 4547, 2009 |
수소 희석이 수소화된 비정질 규소의 증착 과정에 미치는 영향에 관한 연구 = The effects of hydrogen dilution on deposition of hydrogenated amorphous siliconlink 황치선; Hwang, Chi-Sun; et al, 한국과학기술원, 1993 |
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