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Physical properties and thermal stabilities of tungsten nitride diffusion barrier produced by plasma enhanced chemical vapor deposition = 플라즈마 화학 증착된 질화 텅스텐 확산 방지막의 물리적 특성 및 열적 안정성link Lee, Chang-Woo; 이창우; et al, 한국과학기술원, 1994 |
수소화된 비정질 실리콘 박막 트렌지스터의 절연막 특성 연구 = Characteristics of gate insulator in amorphous silicon thin film transitorlink 이창우; Lee, Chang-Woo; et al, 한국과학기술원, 1990 |
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