244261 | 실리콘 마이크로선 표면의 화학적 식각을 이용한 요철 생성 및 이를 수소 가스 탐지에 적용하는 방법에 관한 연구 = surface roughening of silicon microwire by chemical etching and its application to hydrogen sensorlink 김형균; 박인규; et al, 한국과학기술원, 2019 |
244262 | 실리콘 모재 위의 후막구조에 대한 열 변형 및 잔류 응력 해석 엄윤용, 대한기계학회 재료 및 파괴부문 학술대회 논문집, pp.307 - 313, 2000 |
244263 | 실리콘 및 탄소가 첨가된 GaAs의 전기 및 광학적 성질에 미치는 수소화 처리의 영향에 관한 연구 = Effects of hydrogenation on electrical and optical properties of Si-doped and C-doped GaAslink 오태석; Oh, Tae-Seok; et al, 한국과학기술원, 1994 |
244264 | 실리콘 박막의 재결정시 응고계면형상이 결함형성에 미치는 영향 이시우; 반효동; 주승기; 이원종, 대한금속·재료학회지, v.32, no.3, pp.351 - 357, 1994-01 |
244265 | 실리콘 반도체를 기반으로 하는 광 빔 포밍 네트워크 칩 나노팹; 김종훈; 김영수; 유동은; 이동욱; 김기남; 황해철, 2018-08-21 |
244266 | 실리콘 산화공정에 대한 실험적 고찰 최연익; 김충기, 전자공학회지, v.16, no.1, pp.26 - 32, 1979-03 |
244267 | 실리콘 산화과정에 대한 고찰 = A study on the oxidation process of siliconlink 최연익; Choi, Yearn-Ik; et al, 한국과학기술원, 1978 |
244268 | 실리콘 식각 공정시 발생하는 격자결함 관찰 및 제거동향 연구 원대희; 이주훈; 김지형; 염근영; 이주욱; 이정용, 한국재료학회지, v.6, no.5, pp.524 - 531, 1996-12 |
244269 | 실리콘 양극 산화방법에 의한 실리콘내의 보론과 아세닉 확산분포의 측정 박형무; 김충기, 전자공학회지, v.18, no.1, pp.7 - 19, 1981-02 |
244270 | 실리콘 에피층을 이용한 자동차 에어백 가속도계 고종수; 김규현; 이창열; 조영호; 이귀로; 곽병만; 박관흠, 한국자동차공학회 춘계 학술대회, pp.110 - 117, 1995-06-24 |
244271 | 실리콘 에피층을 이용한 자동차 에어백용 가속도계 고종수; 김규현; 이창렬; 조영호; 이귀로; 곽병만, 한국자동차공학회논문집, v.4, no.5, pp.9 - 15, 1996-09 |
244272 | 실리콘 에피층을 이용한 자동차 에어백용 가속도계 고종수; 김규현; 이창력; 조용호; 이귀로; 곽병만, 한국자동차공학회 논문집, v.4, no.5, pp.4 - 12, 1996 |
244273 | 실리콘 에피택시 층을 적용한 고품질의 다결정 실리콘박막의 제조방법 및 다결정 실리콘 박막을 포함하는전자소자 안병태; 이승렬, 2007-12-11 |
244274 | 실리콘 옥시카바이드의 3 차원 구조체, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 타이어 고무용 조성물 정연식; 이건호; 한유진 |
244275 | 실리콘 웨이파에서 Denuded zone 형성 및 generation lifetime 증가 효과 = Denuded zone formation and generation ligetime improvement in silicon waferslink 김현수; Kim, Hyeon-Soo; et al, 한국과학기술원, 1985 |
244276 | 실리콘 웨이퍼 보관케이스 나노종합기술원; 이태재; 정순우; 배남호; 이석재; 허윤석; 김민영; et al, 2019-05-13 |
244277 | 실리콘 웨이퍼 접합을 위한 코발트-주석 금속간화합물에 관한 연구 = A study on the Co-Sn IMCs for the silicon wafer bondinglink 김성환; Kim, Sung-Hwan; et al, 한국과학기술원, 2008 |
244278 | 실리콘 웨이퍼에서 변조된 광 반사율의 3차원적 해석 = The 3-dimensional analysis of photoreflectance in silicon waferslink 김선철; Kim, Sun-Chul; 남창희; 김호철; et al, 한국과학기술원, 1995 |
244279 | 실리콘 웨이퍼의 폴리싱 공정에서 웨이퍼 표면의 제거속도에 미치는 공정변수의 영향 배선혁; 김도현, pp.3921 - 3924, 1998-10 |
244280 | 실리콘 임페트 다이오드의 設計 및 製作 = Design of silicon IMPATT diode and its fabricationlink 강경석; Kang, Kyung-Suk; et al, 한국과학기술원, 1976 |