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원자층증착법에 의한 $HfO_2$ 게이트절연막의 성장과 플라즈마처리에 의한 질화에 관한 연구 = Study on $HfO_2$ gate dielectric grown by atomic layer deposition and its nitridation by plasma treatmentlink

박건식; Park, Kun-Sik; et al, 한국과학기술원, 2011

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