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Synthesis and application of polymers for 193-nm photoresists = 193-nm 포토레지스트용 고분자의 합성 및 응용link Lee, Jae-Jun; 이재준; et al, 한국과학기술원, 2002 |
Synthesis of functionalized cycloolefins and their polymerization by late transition metals = 관능기를 갖는 고리형 단량체의 합성 및 후기 전이금속을 이용한 중합link Byun, Gwang-Su; 변광수; et al, 한국과학기술원, 2005 |
Synthesis of norbornene copolymers with acid labile organosilicon protecting groups and their application as dry-developable photoresists for ArF lithography = 산촉매에 의해 분해되는 유기 실리콘기를 노르보넨 측쇄에 함유하는 공중합체의 합성과 건식현상형 포토레지스트로서의 응용link Kang, Jae-Sung; 강재성; et al, 한국과학기술원, 2000 |
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