탈편광 광도법에 의한 나이론 66의 결정화 속도에 관한 연구

Abstract

탈편광 광도법에 의해 나이론 66의 등온 결정화 속도를 측정하여, 결정화 온도, 분자량, 기핵제 등의 결정화 속도에 미치는 영향을 검토하였다. 헥사메틸렌디아민과 아디프산으로부터 중합된 나이론 66과 Leona 1300S(일본 Asahi사 제품)를 시료로 사용하였으며, 기핵제로는 페닐포스핀산염을 사용하였다. 얻어진 결과는 Avrami eaution을 이용하여 해석하였으며, 그 결과는 다음과 같다. 결정화 온도 범위 232~243℃에서 총괄 결정화 속도 t1/2-1은 0.0435에서 0.0125의 값을 취하고, Avrami지수 n은 약 3~4이었다. 수평균 분자량이 16.500에서 15.500으로 감소할 때, 총괄 결정화 속도 은 0.0164에서 0.0204로 증가하였다. 이 총괄 결정화 속도 값은 상업화된 사출 성형규격의 나이론 66인 Leona 1300S에 견줄만한 값이었다. 1wt% 페닐포스핀산염이 존재할 때 총괄 결정화 속도는 0.0172에서 0.0278로 증가하였으며 Avrami지수는 11.3에서 3으로 감소하였다.