술폰화된 Poly(phenylene sulfide)의 합성과 특성

Abstract

본 연구에서는 유기용매에 용해되는 poly[methy[4-(phenylthio)pheny]sulfonium trifluormethanesulfonate](PPST)를 methyl-(phenylthio) phenyl sulfoxide의 자가축중합으로 합성하였다. 술폰화된 PPS는 PPST를 발연황산 (10% SO3-H2SO4으로 술폰화한 후 NaOH 수용액으로 demethylation 하여 제조되었다. IR 흡광도와 이온교환용량으로 얻어진 술폰화의 최적조건은 반응시간 12시간. 반응온도 150 ℃ 이었다. IR 흡광도로 얻어진 이온교환용량 값은 11.5meq/g이었고, 반복단위에 대한 술폰화 정도는 2.19였다. 150 ℃ 이상의 술폰화반응에서 술폰산기와 인접페닐기 사이의 탈수 축합에 의해 가교화가 일어나기 때문에 술폰화정도가 낮은 결과를 초래하게 된다. PPS가 술폰화됨에 따라 유리전이돈도(T g)가 증가하였고, 초기 열분해 온도는 감소하였다.