DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 나노종합기술원 | ko |
dc.contributor.author | 이병주 | ko |
dc.contributor.author | 임부택 | ko |
dc.contributor.author | 배희경 | ko |
dc.date.accessioned | 2019-05-09T06:10:34Z | - |
dc.date.available | 2019-05-09T06:10:34Z | - |
dc.date.issued | 2019-05-03 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/261811 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 나노몰드 제조방법에 관한 것으로, 실리콘 웨이퍼 위에 BARC와 감광막을 도포 후 포토리소그래피 공정으로 감광막 패턴을 형성하는 단계; 전체표면 상부에 금속층을 증착하여 전기도금 씨드층을 형성하는 단계; 상기 전기도금 씨드층 상에 전기도금층을 형성하는 단계; 및 상기 BARC과 감광막 패턴을 제거하여 실리콘 웨이퍼를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. | - |
dc.title | 나노몰드 및 그 제조방법 | - |
dc.title.alternative | NANO MOLD AND METHOD OF FABRICATING THEREOF | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 이병주 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 임부택 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 배희경 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2017-0064083 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1977122-0000 | - |
dc.date.application | 2017-05-24 | - |
dc.date.registration | 2019-05-03 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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