금속의 균일 성장 및 식각의 기학적 비가역성을 이용한 임베디드 금속 나노구조 및 그 제작 방법EMBEDDED METAL NANOSTRUCTURE USING GEOMETRICAL IRREVERSIBILITY OF CONFORMAL DEPOSITION AND UNIFORM GROWTH OF METAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

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본 발명은 무전해 도금을 통해 기판 상에 금속 물질을 도포하고, 식각을 통한 금속 박막의 일부를 제거하여 기판에 임베디드된 형태의 금속 나노구조를 형성하는 금속의 균일 성장 및 식각의 기학적 비가역성을 이용한 임베디드 금속 나노구조 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 종래의 리소그래피 공정을 개선시킨 기술을 제공할 수 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2018-08-17
Application Date
2017-06-15
Application Number
10-2017-0075573
Registration Date
2018-08-17
Registration Number
10-1891440-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/255534
Appears in Collection
EEW-Patent(특허)
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