광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴형성방법Two-dimensional hierarchical nanopatterning bycolloidal lithography using photocrosslinkableparticles
본 발명은 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 광가교가 가능한 콜로이드 입자를 기판에 도포한 후 콜로이드 입자에 선택적으로 광가교를 시키고 가열한 후 기판을 식각하여 선택적으로 나노패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 나노패턴 형성방법은광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함하도록 하여 기판에 선택적인 부분에만 나노패턴을 형성할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2007-07-30
- Application Date
- 2005-08-03
- Application Number
- 10-2005-0070984
- Registration Date
- 2007-07-30
- Registration Number
- 10-0746332-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.