본 발명은 고분자기반 평면 광도파로 제작방법에 관한 것으로, 고분자 물질이 코팅된 기판에 고분자 패턴을 형성하는 리소그래피단계, 상기 고분자 패턴에 열을 가하여 열중합으로 코어를 형성하는 코어형성단계 및 상기 코어가 형성된 기판 상에 상기 고분자 물질과 동일한 고분자 물질을 코팅하고 열을 가하여 열중합으로 클래딩을 형성하는 클래딩형성단계를 포함하여 제작공정이 간소화됨으로써 산업상 효용성이 증가하고, 적은 비용으로 제작이 가능하여 생산성을 높이는 효과가 있다.