마이크로 패턴화된 페로브스카이트 물질 및 그 형성방법

Abstract

본 발명은 마이크로 패턴화된 페로브스카이트 물질 및 그 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정을 응용하여 기판상에 일정한 패턴을 갖는 페로브스카이트 박막을 형성하는 방법을 제공함으로써 반도체 제조공정시 패턴된 유전체 박막으로 사용가능함은 물론, 마이크로 반응기 및 초소형 동력장치에 적용 및 응용될 수 있는 마이크로 패턴화된 페로브스카이트 물질 및 그 형성방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명에 따른 마이크로 패턴화된 페로브스카이트 물질 의 형성방법은 기판 위에 금속층 패턴을 형성하고, 금속층 패턴이 형성된 기판 위에 겔 상태의 페로브스카이트 물질을 도포하여 에이징 및 하소를 한 후, 상기 금속층 및 금속층 상부의 페로브스카이트 물질을 식각제에 의하여 식각하도록 되어 있는 것에 그 특징이 있다.