폴리머 또는 레지스트 패턴 및 이를 이용한 금속 박막패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 및 이들의 형성방법

Abstract

본 발명은 리소그래피 공정 시 입사광의 진행 방향 및 투과도를 조절하는 방법으로 다양한 경사 및 모양을 가지는 폴리머 또는 레지스트 패턴 및 이를 이용한 금속 박막 패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 및 이들의 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리머 또는 레지스트 패턴 형성 방법은 기판 위에 소정의 형상으로 폴리머 또는 레지스트 패턴을 형성하는 방법에 있어서, (a) 상기 기판 위에 감광성 폴리머 또는 레지스트를 도포하여 폴리머 또는 레지스트 막을 형성하는 단계; (b) 상기 폴리머 또는 레지스트 막 상에 포토 마스크를 위치시켜 노광 부분을 결정하는 단계; (c) 노광 되는 빛의 경로 상에 빛 조절막을 위치시키는 단계; 및 (d) 상기 빛 조절막을 조절하여 상기 폴리머 또는 레지스트 막에 조사되는 빛의 진행 방향 및 투과도를 조절하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 폴리머 또는 레지스트 패턴 형성 방법에 의하면 다양한 경사 및 모양의 3차원 구조의 폴리머 또는 레지스트 패턴, 금속 박막 패턴, 금속 패턴 구조, 플라스틱 몰드를 간편하게 형성할 수 있는 효과가 있다. 둥근 단면, 폴리머 패턴, 레지스트 패턴, 금속 박막 패턴, 금속 패턴 구조, 플라스틱 몰드, 고분자 분산형 액정(polymer dispersed liquid crystal-PDLC), 마이크로렌즈(microlens), 마이크로 플루이틱 채널(micro fluidic channel), 표면요철구조