유기물 포토레지스트 교차패턴을 이용하여 배향이 제어된 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법Orientation Controlled Blockcopolymer Nanostructures Using Organic Compound Photoresist Cross Patterns and Method for Preparing the Same
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김상욱 | ko |
| dc.contributor.author | 김주영 | ko |
| dc.contributor.author | 정성준 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:55:21Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:55:21Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/235009 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 유기물 포토레지스트 교차패턴에 의해 배향이 제어된 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 리소그라피에 의해 형성된 유기물 포토레지스트 교차패턴의 높이차를 이용하여 블록공중합체의 배향을 제어함으로써 제조된 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 높이차가 있는 요철들로 구성되는 교차패턴에 의해 블록공중합체를 원하는 방향으로 원하는 만큼만 배향시킬 수 있어, 반도체 공정을 비롯한 실제 산업공정 적용시에 디바이스(device)의 성능저하를 방지할 수 있고, 원하는 형태로 배향된 블록공중합체를 제작할 수 있다. | - |
| dc.title | 유기물 포토레지스트 교차패턴을 이용하여 배향이 제어된 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법 | - |
| dc.title.alternative | Orientation Controlled Blockcopolymer Nanostructures Using Organic Compound Photoresist Cross Patterns and Method for Preparing the Same | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김상욱 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김주영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 정성준 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2010-0003096 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1093204-0000 | - |
| dc.date.application | 2010-01-13 | - |
| dc.date.registration | 2011-12-06 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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