저유전 박막 및 그 제조방법Low Dielectric Thin Films and Method for Preparing the Same
본 발명은 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 알릴기가 함유된 실란 화합물 및 기공형성 물질을 플라즈마 화학증착시켜 제조되는 저유전 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저유전 박막의 제조방법은 선형 또는 비선형 형태의 유·무기 전구체를 이용하여 종래에 비해 유전상수가 월등히 낮은 동시에 열적으로 안정한 저유전 박막을 제조할 수 있고, 스핀 캐스팅법에서 발생되는 전·후 처리에 대한 복잡한 공정을 줄일 수 있으며, 열처리와 같은 과정을 통하여 박막의 유전상수 및 기계적 특성을 개선시켜 반도체 장치 제조 등에 유용하게 이용할 수 있는 효과가 있다.
- Assignee
- 주식회사 케이씨씨,한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2013-10-31
- Application Date
- 2011-03-02
- Application Number
- 10-2011-0018455
- Registration Date
- 2013-10-31
- Registration Number
- 10-1326254-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
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