레이저 간섭 리소그래피를 이용한 광결정 구조가 결합된 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법Method of manufacturing surface plasmonic color filter combined with photonic crystal structure using laser interference lithography
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 최경철 | ko |
| dc.contributor.author | 도윤선 | ko |
| dc.contributor.author | 주병권 | ko |
| dc.contributor.author | 박정호 | ko |
| dc.contributor.author | 황보연 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:05:19Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:05:19Z | - |
| dc.date.issued | 2014-10-21 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/233412 | - |
| dc.description.abstract | 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 광결정 구조를 형성하는 단계와, (b) 광결정 구조 위에 제1 유전체층을 형성하는 단계; (c) 제1 유전체층 위에 금속막을 형성하는 단계와, (d) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (e) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (f) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (g) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 제1 유전체층에 포함된 유전물질과 동일한 유전물질을 포함하는 제2 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다. 광결정 구조의 차단 파장 대역과 나노 홀 어레이의 투과 파장 대역은 서로 다르다. | - |
| dc.title | 레이저 간섭 리소그래피를 이용한 광결정 구조가 결합된 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법 | - |
| dc.title.alternative | Method of manufacturing surface plasmonic color filter combined with photonic crystal structure using laser interference lithography | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 최경철 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 도윤선 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 주병권 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박정호 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 황보연 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원,고려대학교 산학협력단 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2012-0099270 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1455063-0000 | - |
| dc.date.application | 2012-09-07 | - |
| dc.date.registration | 2014-10-21 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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