대면적 방전 스캔 장치 및 이를 이용한 패턴의 형성방법Discharge scan apparatus for large area and method for fabrication of pattern using the same
본 발명은 대면적 방전 가공을 수행하기 위한 사각형 면을 갖는 단자를 포함하는 스캔부; 접지된 상태인 방전판; 및 상기 스캔부 및 방전판에 0.03 kW 내지 1.0 kW의 출력을 가하기 위한 출력부;를 포함하는 대면적 방전 스캔 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 대면적 방전 스캔 장치는 대면적에 균일하게 방전 가공을 수행하여 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 대면적 방전 스캔 장치를 사용한 패턴의 형성방법은 일반적인 패턴, 계층 구조 패턴, 구배를 가지는 패턴 등을 형성할 수 있다. 이는 금속 와이어를 이용하여 실험실 단위에서 표면 구조를 형성하는 종래 기술보다 산업상 이용 가능한 진보된 방법이다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2016-12-30
- Application Date
- 2014-10-23
- Application Number
- 10-2014-0144001
- Registration Date
- 2016-12-30
- Registration Number
- 10-1693286-0000
- Appears in Collection
- BiS-Patent(특허)
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