플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치Plasma Generation Apparatus and Substrate Processing Apparatus

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 292
  • Download : 0
본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2014-08-01
Application Date
2012-01-20
Application Number
10-2012-0006458
Registration Date
2014-08-01
Registration Number
10-1427732-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/229667
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0