패턴 전사 방법 및 패턴 전사 시스템 PATTERN TRANSFER METHOD AND PATTERN TRANSFER SYSTEM

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본 발명은 패턴 전사 방법 및 패턴 전사 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 패턴 전사 방법은, 감광유리 상에, 광원으로부터의 레이저 광을 직접 투사시킨 직사광 및 레이저 광을 반사체에 반사시킨 반사광을 함께 조사하여 소정의 폭을 가지는 제1 간섭패턴을 형성하는 제1 단계, 감광유리를 소정의 폭보다 적게 수평방향으로 이동시키고, 감광유리 상에, 직사광 및 반사광을 재조사하여 제1 간섭패턴에 일부분이 겹쳐지도록 제2 간섭패턴을 형성하는 제2 단계, 감광유리를 열처리하여 제1 및 제2 간섭패턴을 착색시키고, 착색된 제1 및 제2 간섭패턴만이 제거되도록 감광유리를 에칭하는 제3 단계, 제1 및 제2 간섭 패턴이 제거되어 있는 감광유리의 면 상에, 광을 흡수하여 열을 발생시키는 광열변환층 및 전사재료를 증착시킨 제1 전사재료층을 차례로 형성하는 제4 단계, 제1 전사재료층과 기판을 서로 맞대어 가압하고, 감광유리로부터 기판으로 향하는 방향으로 레이저 광을 주사하여 전사재료를 기판 상으로 전사하여 기판 상에 제1 패턴을 형성하는 제5 단계, 감광유리와 기판을 이격시키고, 광열변환층 상에 상기 전사재료를 재 증착시켜 제2 전사재료층을 형성하는 제6 단계, 기판을 수평방향으로 제1 패턴의 패턴간의 간격보다 적게 이동시키고, 제2 전사재료층과 기판을 서로 맞대어 가압하고, 감광유리로부터 기판으로 향하는 방향으로 레이저 광을 주사하여 전사재료를 기판 상으로 전사하여 기판 상이고, 제1 패턴의 사이에 제2 패턴을 형성하는 제7 단계를 포함한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2010-09-28
Application Date
2008-11-07
Application Number
10-2008-0110236
Registration Date
2010-09-28
Registration Number
10-0985060-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/229075
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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