패턴 전사 방법 및 패턴 전사 시스템 METHOD AND SYSTEM FOR TRANSFERRING PATTERN

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본 발명은 패턴 전사 방법 및 전사 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 패턴 전사 방법은, 감광유리 상에, 광원으로부터의 레이저 광을 직접 투사시킨 직사광 및 레이저 광을 반사체에 반사시킨 반사광을 함께 조사하여 복수의 간섭패턴을 형성하는 제1 단계, 감광유리를 열처리하여 복수의 간섭패턴을 착색시키고, 착색된 복수의 간섭패턴만이 제거되도록 상기 감광유리를 에칭하는 제2 단계, 복수의 간섭 패턴이 형성되어 있는 감광유리의 면 상에, 광을 흡수하여 열을 발생시키는 광열변환층 및 전사재료를 증착시킨 전사재료층을 차례로 형성하는 제3 단계, 전사재료층과 기판을 서로 맞대어 가압하고, 감광유리로부터 기판으로 향하는 방향으로 레이저 광을 주사하여, 전사재료를 기판 상으로 전사하는 제4 단계를 포함한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2010-12-09
Application Date
2008-10-07
Application Number
10-2008-0098194
Registration Date
2010-12-09
Registration Number
10-1001619-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/229022
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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