본 발명은 물리적인 접붙이기를 이용한 가교된 고분자 패턴의 표면을 개질하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가교된 고분자 패턴 및 필름 위에 표면 개질 물질을 흡착시키는 단계, 고분자를 용매로 팽창시켜 표면 개질 물질의 일부가 고분자 패턴 안으로 융화되는 단계, 그리고 용매를 제거하여 다시 팽창된 고분자를 원래 형태로 수축시켜 융화된 표면 개질 물질의 일부가 영구히 고정되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질방법에 관한 것이다. 본 발명은 물리적 접붙임(grafting) 방법으로 높은 흡착력을 갖도록 하여 고분자 표면의 물성을 향상시킬 수 있다. 고분자 표면 개질, 가교된 고분자 패턴, 물리적 접붙임(grafting)