Browse "School of Electrical Engineering(전기및전자공학부)" by Subject ECR

Showing results 1 to 5 of 5

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(A) study on performance and stability of polysilicon thin-film transistors using ECR plasma thermal oxide as gate insulator = ECR 플라즈마 열 산화막을 게이트 절연막으로 사용하는 다결정실리콘 박막 트랜지스터의 성능및 안정성에 관한 연구link

Lee, Jung-Yeal; 이정렬; et al, 한국과학기술원, 1995

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(A) study on performance, short-channel effects, and stability of polycrystalline silicon thin-film transistors using ECR $N_2O$-plasma gate oxide = 얇은 ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 성능, 단채널 효과 및 안정성에 관한 연구link

Lee, Jin-Woo; 이진우; et al, 한국과학기술원, 1999

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Characteristics of tunneling nitride grown by electron cyclotron resonance nitrogen-plasma nitridation and its application to low-voltage electrical erasable-programmable read-only memory

Min, KS; Chung, JY; Lee, Kwyro, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.40, no.4B, pp.2963 - 2968, 2001-04

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Polysilicon thin film transistor EEPROMs using ECR $N_2O$-plasma thin oxide as tunnel oxide and interpoly dielectric = 얇은 ECR $N_2O$-플라즈마 산화막을 tunnel oxide 및 interpoly dielectric으로 사용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 EEPROMs에 대한 연구link

Lee, Nae-In; 이내인; et al, 한국과학기술원, 1999

5
Temperature dependent universal mobility modeling and ECR plasma nitridation of Si for fast EEPROM = 온도 의존성을 갖는 전자 및 정공의 이동도 모델과 고속 EEPROM을 위한 ECR 플라즈마 질화 절연막에 대한 연구link

Min, Kyeong-Sik; 민경식; et al, 한국과학기술원, 1997

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