Showing results 1 to 2 of 2
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-N, Ti-N and Ti-Si-N thin films = Ta-N, Ti-N, Ti-Si-N 확산방지막의 플라즈마를 이용한 원자층 증착법에 관한 연구link Park, Jin-Seong; 박진성; et al, 한국과학기술원, 2002 |
Ta-N 박막의 Cu 확산방지 특성에 관한 연구 = A study on the barrier properties of Ta-n thin films against Cu diffusionlink 장유진; Chang, You-Jean; et al, 한국과학기술원, 1999 |
Discover