플라즈마 양극산화법에 의한 Al2O3/InP 시스템의 전기성질

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Issue Date
1982
Language
KOR
Citation

대한전자공학회 T.V. 회로 및 시스템, 반도체 재료 및 부품 연구회 합동 학술 발표회

URI
http://hdl.handle.net/10203/111894
Appears in Collection
EE-Conference Papers(학술회의논문)
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